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    2000℃研究用真空燒結爐

    簡要描述:

    研究用真空燒結爐用石墨,鉬屏或鎢屏作發熱體的高溫真空電阻爐,額定溫度為1000~2400℃??晒┙饘?、難熔化合物及陶瓷材料等在真空或保護氣氛中加熱之用。

    型號:

    城市:上海市

    訪問量:1050

    更新時間:2020-09-01

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    2000℃研究用真空燒結爐

    一、2000℃研究用真空鎢絲爐特點:

      適用于無機材料的成形燒結,原料反應燒結的制備。同時也適用于金屬材料的粉未冶金燒結,還適用于表面噴涂復合材料的高溫燒結處理。此真空爐為高校,科研機構真空爐,根據原材料的不同,可以選用不同的加熱體,可以選擇石墨,鉬屏,鎢屏,金屬鉭等。

    二、2000℃研究用真空鎢絲爐型號規格: 

    產品型號

    加熱元件材質

    設備形式

    取料方式

    有效工作區
    (mm)

    設計加熱
    溫度(℃)

    常用工作
    溫度(℃)

    加熱功率
    (KW)

    冷態
    極限真空度(Pa)

    VVSw-30-2000

    鎢絲

    立式

    上取料

    Φ100×100

    2000

    1800

    30

    6.7×10-3

    VVSw-50-2000

    鎢絲

    立式

    上取料

    Φ160×160

    2000

    1800

    50

    6.7×10-3

    VVSw-150-2000

    鎢絲

    立式

    下取料

    Φ300×400

    2000

    1800

    150

    6.7×10-3

     

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